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第五八九章 摩尔定律和半导体工艺制程

而台积电的林本坚发现了另外一个方向。

光进入水中时会发生折射,光源的波长也会有相应的缩短。

所以193纳米的光穿过一层水之后,就有了等效于134纳米波长光源的效果。

于是,台积电和阿斯麦尔合作,以林本坚提出的方向为目标,研发出了浸润式光刻机。

意思就是泡在水里面光刻。

继续使用193纳米的光源,推动芯片制程从45纳米继续上升,最终的极限做到了7纳米工艺。

直到深入5纳米制程范围的时候,193纳米的深紫外光源才彻底走到了尽头。

半导体产业不得不尝试更换波长13.5纳米的极紫外光源。

所以对于大明而言,当然可以尽快用攻关浸润式光刻技术,但是在新光源的研究上也要不断努力。

另外,前世所有用过的已经成功的路,当然是已经确定可行的路。

前世没有采用的道路,也未必是不可行的。

以现在大明的资源,对于后世出现过其他方案,也可以让工部有选择尝试。

说不定能够实现比原有道路更好的效果呢?

比如说“同步辐射光源”设施,本身作为一个其他方面的科研设施,其原理使得其能放出各种波长的光。

包括最为接近X光的“极紫外光”。

实际上,历史上早期的光刻机技术验证,也曾经用过同步辐射光源去做研究和验证。

但是同步辐射光源的性质注定了难以商业化。

大明这边也可以尝试,建设大规模的同步辐射光源,在它的基础和原理上讨论,各种光源和光刻的可行性。

同时它也可以继续作为科研设备持续运转。

还有其他的更加具体的细节,比如提升性能的铜导线工艺,提升效率的双件工作台设计等等。

朱靖垣把自己能想到的都依次列举出来,作为自己的不确定的设想。

让工部和半导体司安排人员去做攻关和验证。

在这样的基础上,朱靖垣对工部、半导体司、工匠们提出了更加具体的研发目标。

首先是最重要和最核心的工艺制程和中央处理器。

两年之内完成一微米工艺的普及和量产,同时完成下一代的通用微处理器的开发。

新处理的性能目标是每秒计算次数不低于一千万次。

最好是达到每秒五千万次,也就是接近于386甚至486,或者是第一代PS游戏机的水平。

同时要求,它必须是六十四位微处理器,开发代号也因此直接确定为六十四。

按照朱靖垣的计划,六十四位处理器开发完成之后,将会开始主动向民用市场推广,主动开发更多民用设备。

大明的半导体产业构建方式,与历史上的美利坚完全不同。

美利坚作为一个商业社会,就算是官方主导的项目,通常也是军方出钱出技术,让民间厂商去完成产品开发。

这种模式的优势是非常明显的。

最终产品的类似产品,以及开发过程中产生的技术,能够更快的进入民用市场。

会有很多商人想尽一切办法,把他们的商品推给任何有购买力的人,这非常有利于新产品的迅速推广。

他们的理论利润是没有明显限制的。

在很多时候,这种市场的运转状态,是非常接近充分竞争状态的。

但是缺点也同样明显。

缺乏引导的蓝海市场竞争会出现各种各样的混乱。

很容易出现劣币驱逐良币的情况,甚至可能出现模仿者干死原创的情况。

通常要经过长期的厮杀,等到有少数拥有绝对优势的厂商,联合起来勉强控制大部分市场的时候。

才有可能形成相对稳定的秩序和行业标准。

因为在市场处于混战状态的时候,厂商之间基本上是谁也不服谁的。

任何单个没有优势的厂商,想要主导行业内的标准的时候,都可能有其他厂商反对和捣乱。

在此之前,不直接掌握行业资源的官方,也没有能力要求所有厂商执行某种标准。

但是到了这个时候,寡头垄断甚至绝对垄断应该也已经形成了。

市场的充分竞争状态也就不复存在了。

比如Intel的摩尔定律成为了行业标准之后,所有厂商都要以两年为周期制定开发计划。

就算是朝廷的反垄断法,都可能已经无法撼动这些垄断厂商的地位了。

罚款对他们而言不痛不痒,朝廷还没有能力真的彻底关闭他们。

在朱靖垣的记忆之中,类似的事情已经重演过很多次了。

在第二次工业革命之后,在没有限制的充分竞争环境下,非常容易诞生寡头甚至绝对垄断厂商。

美利坚朝廷对intel、微软、高通无能为力。

在计算机产业内,Intel、amd、nvidia虽然是三家公司,但是相互之间有股权交叉和专利交叉授权。

他们之间还会理所当然的演双簧,依靠垄断地位交替收割巨额利润。

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