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第五八九章 摩尔定律和半导体工艺制程

Intel凭借固定两年周期的摩尔计划,引导一系列下游厂商进入了自己的节奏。

然后intel凭借完善稳定的供应链体系,最终杀出重围并站稳了脚跟。

最终让intel成了整个微处理器领域内绝对的行业领导者。

这又反过来让摩尔定律持续不断地延续下去。

这个两年为周期的摩尔计划,同时还能形成巨大的投资吸引力。

如果这些半导体厂商,向传统投资者介绍自己的技术和设想的细节的话,传统投资者可能会听的一头雾水。

但是他们现在说:我们的产品两年升级一轮,性能两年提升一倍,成本两年下降一半。

这就与那些投资宣讲会上的“目标”就非常的类似了。

所有人都能听得懂了。

最关键的是,整个产业的发展和升级速度,确实能够完成他们宣称的目标。

晶体管的密度真的两年就能翻一倍。

他们甚至能够持续数十年始终保持这个升级速度。

这就让所有没有经验的投资者都相信,投资这个产业绝对不会亏。

所以摩尔定律虽然不是科学规律,只是经验总结和发展计划周期,但是却发挥了宛如定律的作用。

极大的推动了半导体产业的持续稳定发展,扩大了半导体产业的影响力。

形成了一个事实上的行业发展标准。

那么现在的大明?

大明本来就有各种各样的计划,不需要专门喊一个两年计划的口号。

与此同时,大明目前的整个半导体产业,都完全在大明皇室和朝廷的完全掌控之中。

所有的厂商都是同一个系统内的,本来就在理所当然的互相配合。

也不需要专门喊口号让大家保持同步。

最后,摩尔既然是供应链周期和行业口号,并且在数十年内都基本保持住了。

那这个速度就不是半导体产业升级速度的极限。

肯定是留有余量的。

最起码,在持续四十年的时间内,intel自己显然是留有余量的。

不然intel也不会有牙膏厂的绰号。

在历史上,摩尔在1965提出的口号,是一年翻一倍。

后来可能是发现这个速度难以实现,或者其他的厂商可能跟不上,就在1975年改成了两年翻一倍。

到了1997年的时候,他再次做了非正式的折中化修正,改成了一年半翻一倍。

实际上从七十年代开始算起,直到新世纪初的总共四十年里面,晶体管的增加速度都是两年翻一倍。

大明现在的情况与另一个世界截然不同。

半导体产业有大明皇帝和朝廷直接的推动,无论是资金和政策都是完全敞开了供应的。

相应人员不需要考虑想办法拉投资。

还有新产业集团统一协调研发和生产节奏,不需要在多方厂商关系协调上浪费时间。

关键有大明皇帝直接给出的正确方向。

所以大明有机会直接实现单位面积晶体管数量一年翻一倍的目标。

在这个内部会议上,朱靖垣按照自己前世的经验,把自己知道的可能有效的技术方向都列出来。

让汪莱安排多组人员分头去攻关这些技术。

首先提出步进式光刻机的设计逻辑,提出微缩光刻的技术方向。

原有的光刻工艺中,物理机械手段直接生产的电路板的母版,其精度是有其极限同时也相对不容易提升的。

但是可以通过曲面透镜投影缩放的方式,照着大模板来生产更小的芯片。

要求光学厂商配合研发更高精度的镜头。

然后直接提出浸润式光刻技术的逻辑,让工匠从一开始就直接去走浸润式光刻的方向。

按照光刻机的逻辑,光源的波长越短,就能够生产出制程越小的芯片。

但是又不能无限短,最短的X射线会直接穿过物体,导致无法通过透镜和反射来缩放图纸。

只能在工艺水平大幅度提升后,用在少数有特殊需求的半导体产品上。

常规光源的升级过程,就是不断地寻找无限接近X射线,但是又不能出现X射线现象的光源的过程。

最早的光刻机光源是可见的蓝光,波长是450纳米,实现了微米级的工艺。

在微缩光刻时代,迅速转入不可见的紫外光时代。

波长降低到了365纳米,实现了800纳米到280纳米的工艺。

之后很长的一段时间内,就是在紫外光的范围内,持续不断地缩短波长。

直到波长为193纳米的节点的时候,已经可以用来生产280纳米到65纳米制程芯片了。

如果按照这个方向继续下去,本来应该去寻找波长157纳米的光源,开始生产45纳米及以下的芯片。

但是当时的光源开发公司,在研制波长157纳米的光源时遇到了困难,或者说是瓶颈。

当时的光刻机产业的领头羊尼康在157纳米光源上头铁了很久。

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